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第五百零七章 从一个坑跳进另一个坑

    第五百零七章 从一个坑跳进另一个坑 (第3/3页)

血了……”

    ……

    玄武市,光学所。

    “这批的废品率怎么样?”吴韵打了个哈欠说道:“降下去了没有?”

    “降下去了,持续在下降,我们操作不太熟,但是这条光刻机废品率,能降到荷兰ASML的水准,商用水平肯定是达到了……”所长红着眼睛说道。

    “好了,您老先去休息吧!”吴韵说道:“这都已经快一天时间了……”

    “现在有点兴奋,睡不着了!”老所长说道:“实话实说,在你们没进来之前,华夏目前的光刻机技术要和ASML相比的话,至少有10年以上的差距,短时间内是追不上的,所以还是想办法外购为好……”

    他叹了一口气。

    “就连我们这些行业老研究人员,都觉得这辈子是没办法赶上的了。”

    吴韵面色严肃的颔首。

    “现在也不过是有了技术突破而已,想要赶上还有很长一段路要走……”

    “根据ASML的技术分为四个档次,分别是超高端、高端、终端、低档!”

    “这分别对应的节点是5/7nm工艺、7-26nm工艺、28-65nm工艺、65-90nm工艺……”

    “这目前是我们所推测ASML的所有技术底蕴!”

    “除了ASML之外的其他光刻机厂家,也就只有nikon一家产品停在28nm的这个节点,佳能和魔都微电子都停留在90nm这个节点……”

    这也就意味着,国内的光刻机厂家,只能生产落后于ASML四代的产品。

    “对方的5/7nm芯片技术?”

    老所长摇头说:“虽然市面上没有推出产品,但是肯定有相关技术积累,硅原子晶片的极限也快差不多到头了,ASML在没有取得其他压制性技术前,肯定不愿一下子把最好的技术拿出来,反正市场上没有同类型公司竞争!”

    最厉害的尼康也停在28nm不再继续研发竞赛了。

    甚至可以说,ASM已经挖掘光了硅芯片,后来追赶者只能在后面吃灰,这也是国家起初不愿意投资的原因……

    “还好有你们!”

    
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