第六百五十七章 时间才是最大的敌人 (第2/3页)
无比，只得暗自研究相关工艺。
“张总，您找我？”林苯坚进门，就看到张中谋在看资料沉思。
“苯坚呐，你来了。”张中谋闻言抬头，喜道：“快请坐。”
待到林苯坚小心地坐下后，张中谋笑道：“苯坚啊，你上次申请的湿法光刻技术项目，我研究后很有兴趣，你能对我再讲讲你的看法吗？”
“啊……”
林苯坚闻言又惊又喜，惊的是德高望重的张中谋亲自研究了他的项目方案，喜的是自己终于得到了发挥的机会。
他整理了一下思路，缓缓道：“传统的干式光刻法，自1959年发明‘平面积成电路’以来，被持续使用了四十年，然而受限于基本光学衍射，在90年代后期，用该方法制造特征尺寸小于65纳米的芯片面临无法逾越的瓶颈。”
林苯坚坚定地道：“我预见昂贵的干式光刻技术将进入死角，所以建议使用湿式光刻，该方法是一种新的光刻工序，透过液体介质置换透镜和晶圆表面之间的气隙以提高光学解析精度。”
“这个我知道，你说的湿式光刻，是浸润式光刻，这个概念在80年代曾有人提出过。但这个概念很原始，距离可实现的方法还很远。”张中谋点头道。
“对，为了优化浸润式光刻系统，我在理论上重新定义并导出了关键性能指标和缩放公式，为极高解析度的三维浸润式光刻光学系统，规范了必须遵行的缩放定律。”
林苯坚道：“我还在实验室的研究发现，想要完善浸润式光刻，就是要克服液体中微气泡的形成。还必须要开拓在热力学极限下，经由水而衍射的光刻工序。”
张中谋赫然动容道：“如果你的这个设想全部解决，那么在科学和工程上，就证实了湿式光刻方法可用于最先进的IC制程，可以将IC技术节点从65nm持续降低，打破65nm的技术壁障。”
“对，这样摩尔定律又可以生效了。至少可以再持续延伸了五代以上。”林苯坚信心满满地道。
“哈哈，好哇！”
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